一种氟化碳薄膜的制备方法
公开
摘要
本申请公开了一种氟化碳薄膜的制备方法，所述氟化碳薄膜的制备方法包括如下步骤：真空室的抽真空、镀料的离化、镀料的供料、薄膜的成型以及薄膜的取下。本申请的有益之处在于其采用真空镀膜进行加工，其中加工形成的薄膜均匀性较好，其中基片采用旋转转动设置，可进行转动，从而使得表面形成均匀的薄膜，整体的使用效果较好；同时可进行抽真空排出气体中，镀料的回收，避免造成浪费。
基本信息
专利标题 ：
一种氟化碳薄膜的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114606464A
申请号 ：
CN202210246667.4
公开（公告）日 ：
2022-06-10
申请日 ：
2022-03-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
魏利
申请人 ：
苏州科国智新材料科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市吴江区盛泽镇西二环路1188号中国盛泽纺织科技创业园10号楼202室
代理机构 ：
盐城海纳川知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
丁绘燕
优先权 ：
CN202210246667.4
主分类号 ：
C23C14/06
IPC分类号 ：
C23C14/06 C23C14/32 C23C14/50 B01D53/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/06
以镀层材料为特征的
法律状态
2022-06-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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