一种调控金属氧化物光、电性质的方法及应用
公开
摘要

本发明属于光电材料制备技术领域,具体涉及一种调控金属氧化物光、电性质的方法及应用。本发明以金属氧化物薄膜为对象,将功函数低于金属氧化物的金属单质置于氧化物上,并保持金属单质和金属氧化物薄膜完全接触;滴适量酸性离子液体,使其浸湿金属氧化物薄膜和金属单质,并保持一定时间,从而利用金属单质与金属氧化物功函数的差异实现金属氧化物的氢掺杂,进而调控了金属氧化物的微结构、光学和电学性质,调控程度可以通过改变金属氧化物的种类、金属单质的种类以及离子液体的浸湿时间等实现,因此,本发明提供了一种调控材料光、电性质的简便方法。

基本信息
专利标题 :
一种调控金属氧化物光、电性质的方法及应用
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114622178A
申请号 :
CN202210253028.0
公开(公告)日 :
2022-06-14
申请日 :
2022-03-15
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
李小丽王晓霞赵娟娟许小红
申请人 :
山西师范大学
申请人地址 :
山西省临汾市尧都区贡院街1号
代理机构 :
北京三聚阳光知识产权代理有限公司
代理人 :
周淑歌
优先权 :
CN202210253028.0
主分类号 :
C23C14/54
IPC分类号 :
C23C14/54  C23C14/28  C23C14/08  C23C14/58  C23C14/35  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/54
镀覆工艺的控制或调节
法律状态
2022-06-14 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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