一种用于管状靶材的真空烧结系统
公开
摘要

本发明公开了一种用于管状靶材的真空烧结系统,第一压盖设置有第一模具,第二压盖设置有第二模具,第一模具与第二模具配合用于成型,第一保温壳与第二保温壳形成的加热腔内设置有加热装置;第一压盖设置在机架上,第二压盖固定连接在加压装置的输出端,加压装置固定连接在机架上;加压装置包括恒压装置和反馈装置,恒压装置用于提供稳定压力,反馈装置用于提供附加压力;通过反馈系统以位置为依据,当第一模具逐渐靠近第二模具时,反馈装置提供的附加压力逐渐变大,使素坯所受压力在烧结过程为逐渐变大,较小的初始力避免过早得出较大的晶粒,靶材烧结过程中各部位的累积受力的差异缩小,从而使各部位的晶粒的大小趋于均匀。

基本信息
专利标题 :
一种用于管状靶材的真空烧结系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114623679A
申请号 :
CN202210265521.4
公开(公告)日 :
2022-06-14
申请日 :
2022-03-17
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
唐智勇
申请人 :
株洲火炬安泰新材料有限公司
申请人地址 :
湖南省株洲市天元区天易科技城自主创业园一期A5栋
代理机构 :
湖南正则奇美专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
蔡敏
优先权 :
CN202210265521.4
主分类号 :
F27B5/04
IPC分类号 :
F27B5/04  F27B5/14  F27B5/18  F27D7/06  
IPC结构图谱
F
F部——机械工程;照明;加热;武器;爆破
F27
炉;窑;烘烤炉;蒸馏炉
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉;开式烧结设备或类似设备
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉;开式烧结设备或类似设备
F27B5/00
马弗炉;干馏炉;其他炉料完全隔绝的炉
F27B5/04
适用于在真空中或特殊气氛中处理炉料的
法律状态
2022-06-14 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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