一种低真空氛围靶材制备系统
授权
摘要
本实用新型一种低真空氛围靶材制备系统，喷涂密封舱(101)内安装有靶材驱动总成；靶材驱动总成包含有位于喷涂密封舱(101)底面上的滑轨(302)，有一滑板(301)滑动行走于滑轨(302)上，所述滑板(301)的右端竖向固定设置有右端板(401)，左端板(402)竖向固定设置于移动板(403)上，靶材(1)的两端通过端头夹持件(2)分别架设于右端板(401)和左端板(402)上，安装于滑板(301)上的旋转电机(405)经端头夹持件(2)驱动靶材(1)旋转。本实用新型一种低真空氛围靶材制备系统，其能够在真空环境下进行喷涂，从而保证靶材的喷涂质量。
基本信息
专利标题 ：
一种低真空氛围靶材制备系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922414210.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-27
授权号 ：
CN213295474U
授权日 ：
2021-05-28
发明人 ：
蔺裕平韩刚库
申请人 ：
梭莱镀膜工业(江阴)有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市江阴市高新区金山路201号
代理机构 ：
北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
王凯
优先权 ：
CN201922414210.6
主分类号 ：
C23C4/134
IPC分类号 ：
C23C4/134 C23C4/137
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4/00
熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆（堆焊入B23K，例如B23K5/18，B23K9/04
C23C4/04
以镀覆材料为特征的
C23C4/134
等离子喷涂
法律状态
2021-05-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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