阵列基板及其制备方法、显示装置
实质审查的生效
摘要

本申请提供了一种阵列基板及其制备方法、显示装置,其中,所述第一遮光层可以有效阻挡所述像素电极间隙处的漏光,即使在彩膜基板的黑色矩阵层线宽有限的情况下,也可以实现避免串色不良的目的。且所述第一基板对位标记与所述第一遮光层采用一次构图工艺形成,大大降低了第一遮光层与第一基板对位标记之间套刻误差(overlay)。使得在阵列基板与彩膜基板的对盒过程中,彩膜基板与阵列基板在通过第一基板对位标记对位的同时也实现了彩膜基板的黑色矩阵层与第一遮光层的精准对位,避免了由于彩膜基板的黑色矩阵层与第一遮光层的对位偏差造成的串色不良。

基本信息
专利标题 :
阵列基板及其制备方法、显示装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114488605A
申请号 :
CN202210273503.0
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2022-03-18
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
赵承潭张震
申请人 :
京东方科技集团股份有限公司
申请人地址 :
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 :
北京聿宏知识产权代理有限公司
代理人 :
胡晓男
优先权 :
CN202210273503.0
主分类号 :
G02F1/1335
IPC分类号 :
G02F1/1335  G02F1/1333  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/1335
•••••与液晶单元结构相连的光学装置,例如偏振器或反射器
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/1335
申请日 : 20220318
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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