一种显示基板、显示装置及显示基板的制备方法
公开
摘要
本申请实施例提供一种显示基板、显示装置及显示基板的制备方法，属于显示技术领域。显示基板包括：衬底，以及层叠设置在衬底一侧的至少两个电极层，在衬底指向电极层的方向上，各电极层的刻蚀速率依次增大；其中，至少两个电极层包括相邻的第一电极层和第二电极层，第二电极层位于第一电极层背离衬底的一侧，第二电极层相对于第一电极层朝向第一方向缩进，以在第一电极层上形成第一台阶区域，第一台阶区域在衬底上的正投影与第二电极层在衬底上的正投影无交叠。通过本申请实施例提供的一种显示基板、显示装置及显示基板的制备方法，可以提高PDL成膜的均匀性。
基本信息
专利标题 ：
一种显示基板、显示装置及显示基板的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114628614A
申请号 ：
CN202210289866.3
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2022-03-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
罗程远徐攀张大成韩影张星赵冬辉
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
北京润泽恒知识产权代理有限公司
代理人 ：
李娜
优先权 ：
CN202210289866.3
主分类号 ：
H01L51/52
IPC分类号 ：
H01L51/52 H01L51/56 H01L27/32
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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