一种配置水冷阳极的真空镀膜装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种配置水冷阳极的真空镀膜装置，包括机体，所述机体的顶部连通有阳极，所述阳极的上方安装有固定件，所述机体的内壁顶部安装有第二温度探头，所述外壳的顶部一侧连通有阀门。本实用新型涉及真空镀膜机技术领域，通过环形管、潜水泵和阀门之间的配合，通过第一温度探头和第二温度探头的监测，使用者可灵活控制阀门的打开幅度和潜水泵的工作，保证在节约资源的前提下维持阳极的正常工作，解决了现有装置在进行工作时无法直观的了解到阳极的温度变化，进而无法灵活控制冷却液的输出温度，冷却液温度过高或者过低都会影响阳极的正常工作的问题，不影响正常使用。
基本信息
专利标题 ：
一种配置水冷阳极的真空镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202220083277.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2022-01-13
授权号 ：
CN216614821U
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
王开亮王帅李天琦王海
申请人 ：
沈阳乐贝真空技术有限公司
申请人地址 ：
辽宁省沈阳市沈北新区七星大街63-71号楼102室
代理机构 ：
沈阳天之冠专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
钱燕
优先权 ：
CN202220083277.5
主分类号 ：
C23C14/22
IPC分类号 ：
C23C14/22 C23C14/56 H01J37/32
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
法律状态
2022-05-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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