电弧靶阳极辉光真空镀膜工艺及其所用的设备
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种电弧靶阳极辉光真空镀膜工艺及其所用的设备,其设备包括真空腔体、给真空腔体抽真空的抽真空装置、给真空腔体提供工作气体的工作气体供应装置、第一电弧靶、第二电弧靶、给第一电弧靶和第二电弧靶供电的弧电源、用于定位工件的工件定位装置、给工件提供偏压的偏压电源、用于遮挡作为阴极的电弧靶的遮挡板、驱动遮挡板实现对阴极电弧靶进行遮挡或脱离遮挡的遮挡板驱动装置和控制上述机构启停工作的控制系统,镀膜工艺为将工件放入真空腔体内定位关门抽气、加热,当真空腔体内真空度为5*10‑3Pa,温度为500℃时开始辉光清洗,然后用阴极电弧靶对工件镀膜打底,最后用阳极电弧靶对工件镀膜,本发明在工件表面形成的碳膜层具有致密性好、耐腐蚀性好、导电性好的优点。
基本信息
专利标题 :
电弧靶阳极辉光真空镀膜工艺及其所用的设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114481045A
申请号 :
CN202111583975.8
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2021-12-22
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
成林
申请人 :
昆山浦元真空技术工程有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市昆山市张浦镇俱巷路136号3号房
代理机构 :
昆山中际国创知识产权代理有限公司
代理人 :
尤天珍
优先权 :
CN202111583975.8
主分类号 :
C23C14/32
IPC分类号 :
C23C14/32
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法;蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/32
申请日 : 20211222
申请日 : 20211222
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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