本发明公开了一种电弧靶阳极辉光真空镀膜工艺及其所用的设备，其设备包括真空腔体、给真空腔体抽真空的抽真空装置、给真空腔体提供工作气体的工作气体供应装置、第一电弧靶、第二电弧靶、给第一电弧靶和第二电弧靶供电的弧电源、用于定位工件的工件定位装置、给工件提供偏压的偏压电源、用于遮挡作为阴极的电弧靶的遮挡板、驱动遮挡板实现对阴极电弧靶进行遮挡或脱离遮挡的遮挡板驱动装置和控制上述机构启停工作的控制系统，镀膜工艺为将工件放入真空腔体内定位关门抽气、加热，当真空腔体内真空度为5*10‑3Pa，温度为500℃时开始辉光清洗，然后用阴极电弧靶对工件镀膜打底，最后用阳极电弧靶对工件镀膜，本发明在工件表面形成的碳膜层具有致密性好、耐腐蚀性好、导电性好的优点。