一种用于PVD真空镀膜机电弧靶的挡板
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于PVD真空镀膜机电弧靶的挡板，涉及镀膜机技术领域，包括镀膜室，所述镀膜室内腔左侧固定连接有若干个电弧靶，镀膜室内腔位于电弧靶周围的位置固定连接有人工支撑杆，支撑杆右端滑动连接有挡圈，挡圈中间固定连接有挡板，挡板包括加强筋板，加强筋板左右两侧均固定连接有钢性夹板，挡圈的厚度为20mm，挡圈到电弧靶的距离为90mm，挡板的厚度为10mm，镀膜室左侧中间固定连接有电弧电源，电弧电源与电弧靶电性连接，镀膜室的内腔左侧中间固定连接有定位柱，定位柱右端表面滑动连接活动板。本实用新型通过设置挡板，挡板具有加强筋板和双层钢性夹板，且距离电弧靶更近，能减弱电弧离子对产品本身的污染。
基本信息
专利标题 ：
一种用于PVD真空镀膜机电弧靶的挡板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123050176.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-07
授权号 ：
CN216663216U
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
周少峰王敏孙福刚范永强
申请人 ：
昆山汇创杰纳米科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山市巴城镇景潭路366号4号厂房
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202123050176.2
主分类号 ：
C23C14/32
IPC分类号 ：
C23C14/32
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法；蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2022-06-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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