真空镀膜机水冷却循环系统
授权
摘要
本实用新型涉及真空镀膜机水冷却循环系统，包括形成回路的相互水路连接的水塔、镀膜机冷却管路、第一水泵，还包括分别与水塔水路连接的纯净水补水装置及自来水备用补水装置，还包括水位控制装置，所述水位控制装置分别与纯净水补水装置和自来水备用补水装置电性连接。利用纯净水补水装置作为对水塔提供纯净水及补水的设施，避免矿物质丰富的自来水遇热容易析出形成水垢堵塞冷却管路的现象，无需定时费时费力的清理冷却管路，提高设备使用效率，同时通过水位控制装置首先启用纯净水补水装置补充纯净水，保证机器连续工作不停机，设计简单合理，操作简便，实用性强。
基本信息
专利标题 ：
真空镀膜机水冷却循环系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920674419.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-10
授权号 ：
CN210048843U
授权日 ：
2020-02-11
发明人 ：
卢志坚
申请人 ：
中山晶通光学技术有限公司
申请人地址 ：
广东省中山市火炬开发区中山港出口加工区A幢厂房6层
代理机构 ：
广东高端专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
宁凯
优先权 ：
CN201920674419.3
主分类号 ：
C23C14/00
IPC分类号 ：
C23C14/00 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
法律状态
2020-02-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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