用于减少等离子体处理系统中的副产品沉积的方法和装置
授权
摘要
本发明公开了一种在等离子体处理系统中用于减少等离子体处理室的一组等离子体室表面上的副产品沉积的方法。该方法包括：在等离子体处理室中设置沉积屏障，该沉积屏障被配置为置于等离子体处理室的等离子体生成区中，从而使得等离子体在等离子体处理室内被撞击时所生成的至少一些工艺副产品能粘附在该沉积屏障上，并减少了一组等离子体处理室表面上的副产品沉积。
基本信息
专利标题 ：
用于减少等离子体处理系统中的副产品沉积的方法和装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101422088A
申请号 ：
CN200580047552.7
公开（公告）日 ：
2009-04-29
申请日 ：
2005-12-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
什里坎特·P·洛霍卡雷安德鲁·D·贝利三世
申请人 ：
朗姆研究公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京康信知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
余 刚
优先权 ：
CN200580047552.7
主分类号 ：
H05H1/24
IPC分类号 ：
H05H1/24 H05K9/00 C23C14/00
法律状态
2012-02-01 ：
授权
2009-06-24 ：
实质审查的生效
2009-04-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
