用于处理平板显示器衬底的化学气相沉积系统
专利权的终止
摘要
本实用新型提供一种用于清洗化学气相沉积室的装置。该化学气相沉积室包括将来自远程等离子体源的反应性物种绕过室的气体分配组件引入室中的入口和将来自远程等离子体源的反应性物种经由气体分配组件引入室中的入口。
基本信息
专利标题 ：
用于处理平板显示器衬底的化学气相沉积系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN200620117624.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2006-05-26
授权号 ：
CN200996046Y
授权日 ：
2007-12-26
发明人 ：
崔寿永
申请人 ：
应用材料公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
赵飞
优先权 ：
CN200620117624.2
主分类号 ：
C23C16/513
IPC分类号 ：
C23C16/513 C23C16/52
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
C23C16/513
采用等离子流
法律状态
2016-06-29 ：
专利权的终止
专利权有效期届满号牌文件类型代码 : 1611
号牌文件序号 : 101667772769
IPC(主分类) : C23C 16/513
专利号 : ZL2006201176242
申请日 : 20060526
授权公告日 : 20071226
终止日期 : 无
号牌文件序号 : 101667772769
IPC(主分类) : C23C 16/513
专利号 : ZL2006201176242
申请日 : 20060526
授权公告日 : 20071226
终止日期 : 无
2007-12-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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