物理沉积系统

专利申请权、专利权的转移

摘要

一种用于形成膜的物理沉积系统，该系统在超高真空环境中通过超音速气流，使利用非移动型等离子炬产生的微粒加速，从而使微粒沉积到基片上而不产生释气。该物理沉积系统包括：蒸发腔(10，20)，其内部具有等离子炬(16，26)和蒸发源(15，25)；以及成膜腔(30)，其内部具有超音速喷嘴(35)和用于沉积膜的基片(33)。每个等离子炬包括：基本上呈管状的导电阳极(40)；聚合物基或非聚合物基的绝缘管(50)，该绝缘管被插入阳极中并且产生比电木要少的释气；以及棒状阴极(60)，它被插入绝缘管(50)中。通过利用向阳极(40)和阴极(60)加电压而获得的等离子体，便从蒸发源(15，25)中产生微粒，这些微粒从超音速喷嘴(35)中喷射出去并且被超音速气流携载着，由此在基片(33)上物理地沉积了一层膜。

基本信息

专利标题：

物理沉积系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101061249A

申请号：

CN200580039353.1

公开（公告）日：

2007-10-24

申请日：

2005-10-14

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

汤本敦史丹羽直毅广木富士男塩田一路山本刚久

申请人：

多摩－技术转让机关株式会社

申请人地址：

日本东京

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司

代理人：

郭辉

优先权：

CN200580039353.1

主分类号：

C23C14/24

IPC分类号：

C23C14/24 C23C14/32 C23C14/26