一种物理气相沉积装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种物理气相沉积装置，包括第一箱体和第二箱体，所述第一箱体和第二箱体相对的一侧之间连通有连接管，所述第一箱体的一侧设置有移动装置，所述移动装置的顶部设置有固定装置，所述第二箱体内壁的一侧设置有清洗装置，所述第一箱体一侧的顶部固定连接有真空泵框。所述真空泵框内壁的底部固定连接有真空泵，所述真空泵的进气端连通有抽气管，并且抽气管的一端贯穿第一箱体并延伸至第一箱体的内部，所述第一电机箱内壁的底部固定连接有第一电机。本实用新型所述的一种物理气相沉积装置，设有清洗装置和移动装置，可以在沉积前对工件表面进行清洗，还可以减少工件清洗后与外界的接触，带来更好的使用前景。
基本信息
专利标题 ：
一种物理气相沉积装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921277394.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-08
授权号 ：
CN210916232U
授权日 ：
2020-07-03
发明人 ：
段剑金宋雨洁林喆沈全鹏聂祎赵丽何则浒钱思屹
申请人 ：
云南师范大学
申请人地址 ：
云南省昆明市呈贡区雨花片区1号
代理机构 ：
昆明合盛知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
吴茜
优先权 ：
CN201921277394.X
主分类号 ：
C23C14/22
IPC分类号 ：
C23C14/22 C23C14/56 C23C14/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
法律状态
2020-07-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
