一种物理化学气相沉积装置
专利权的终止
摘要

本实用新型公开了一种物理化学气相沉积装置,包括装置壳体,装置壳体的内部开设有放置室,放置室的内部设置有沉积箱,装置壳体的上表面一端铰接有装置盖板,装置壳体的上表面另一端设置有气体储存罐,装置壳体位于放置室的下方开设有传热室。本实用新型中,首先,该装置通过把手、转动杆、齿轮圆辊和升降板的设置能够在取出气相沉积完毕后,将沉积箱与装置分离,避免了装置本体上面各种复杂结构影响操作人员,降低了实验操作人员取出操作的难度,提高了沉积装置的实用效果,其次通过降温抽槽、降温箱和导热板的设置能够在气相沉积完成之后,加速装置的冷却,减少了实验人员等待所耗费的时间,提高了气相沉积装置的工作效率。

基本信息
专利标题 :
一种物理化学气相沉积装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920750875.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-05-23
授权号 :
CN209890726U
授权日 :
2020-01-03
发明人 :
周科
申请人 :
陕西理工大学
申请人地址 :
陕西省汉中市汉台区东一环路1号
代理机构 :
济南鼎信专利商标代理事务所(普通合伙)
代理人 :
曹玉琳
优先权 :
CN201920750875.1
主分类号 :
C23C14/22
IPC分类号 :
C23C14/22  C23C16/44  
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IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
法律状态
2021-05-04 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C23C 14/22
申请日 : 20190523
授权公告日 : 20200103
终止日期 : 20200523
2020-01-03 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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