真空装置、其泄漏率测量方法及测量用程序和存储介质
专利权的终止
摘要

本发明提供一种在排气部不使用闸阀的真空装置中,能够准确地测量真空腔室泄漏率的泄漏率测量方法。该方法是对测量如下构成的真空装置的泄漏率的泄漏率测量方法,该真空装置包括:内部收容被处理体并进行处理的真空腔室、经过作为通导性可变阀门的第一阀门与真空腔室相连接的第一排气泵、连接在第一排气泵排气方向下游的第二阀门,该装置设有从所述第一排气泵和所述第二阀门之间的排气通道分支出来的、以连通状态与真空腔室相连接的循环通道,在所述第一阀门设定在规定的通导性,所述第二阀门闭合的状态下,由所述第一排气泵通过所述循环通道使气体向所述真空腔室循环,对所述真空腔室内的压力进行监测。

基本信息
专利标题 :
真空装置、其泄漏率测量方法及测量用程序和存储介质
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1835200A
申请号 :
CN200610008362.0
公开(公告)日 :
2006-09-20
申请日 :
2006-02-21
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
北泽贵小林敦手塚一幸
申请人 :
东京毅力科创株式会社
申请人地址 :
日本东京
代理机构 :
北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人 :
龙淳
优先权 :
CN200610008362.0
主分类号 :
H01L21/66
IPC分类号 :
H01L21/66  H01L21/3065  H01L21/20  H01L21/02  G01M3/26  C23F4/00  C23C14/00  C23C16/00  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/66
在制造或处理过程中的测试或测量
法律状态
2017-04-05 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101712359506
IPC(主分类) : H01L 21/66
专利号 : ZL2006100083620
申请日 : 20060221
授权公告日 : 20090722
终止日期 : 20160221
2009-07-22 :
授权
2007-01-24 :
发明专利申请公布说明书更正
更正卷 : 22
号 : 38
页码 : 扉页
更正项目 : 优先权
误 : 缺少优先权第二条
正 : 2005.06.16 JP 2005-175909
2006-11-22 :
实质审查的生效
2006-09-20 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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