用于云纹干涉法的闪耀衍射光栅及试件栅制备工艺
专利权的终止未缴纳年费专利权终止
摘要
用于云纹干涉法中的闪耀衍射光栅。本发明属用光学方法和衍射光栅元件测量固体的变形。本发明为用于云纹干涉法中的位相型闪耀衍射光栅。其断面形状为等腰三角形。密度为50～1200线/毫米的平行栅和正交栅。复制在试件表面上形成试件栅。选择等腰三角形的斜面倾角β和光栅节距p，使入射的相干准直光在所需要的m衍射极上进行闪耀，获得最大光强。利用衍射波前的干涉，可以获得代表试件表面的位移场和应变场的高灵敏度、高反差的云纹干涉条纹图。
基本信息
专利标题 ：
用于云纹干涉法的闪耀衍射光栅及试件栅制备工艺
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN85100054A
申请号 ：
CN85100054.1
公开（公告）日 ：
1986-08-06
申请日 ：
1985-04-01
授权号 ：
CN85100054B
授权日 ：
1986-10-22
发明人 ：
傅承诵吴振华戴福隆
申请人 ：
清华大学;北京光学仪器厂
申请人地址 ：
北京市海淀区清华园
代理机构 ：
清华大学专利事务所
代理人 ：
张秀珍
优先权 ：
CN85100054.1
主分类号 ：
G02B5/18
IPC分类号 ：
G02B5/18 G01B11/16
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/18
衍射光栅
法律状态
1991-08-07 ：
专利权的终止未缴纳年费专利权终止
1987-04-22 ：
授权
1986-10-22 ：
审定
1986-08-06 ：
公开
1985-10-10 ：
实质审查请求
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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