无外加热源真空离子渗碳
专利权的终止未缴纳年费专利权终止
摘要
本发明属于化学热处理，更具体地说是用于离子渗碳的设备和方法。它是在现行的普通离子氮化炉中，在阴极盘上放置工件的周围设置与工件同电位的带孔金属套，来实现高温离子渗碳。对普离子氮化炉施用本发明后，不仅能够渗碳，而且仍能进行离子氮化。本发明具有对长杆、管件和局部渗碳件便于处理，渗碳质量高，耗电耗气省等优点。
基本信息
专利标题 ：
无外加热源真空离子渗碳
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN86102217A
申请号 ：
CN86102217.3
公开（公告）日 ：
1987-10-21
申请日 ：
1986-04-08
授权号 ：
CN1006557B
授权日 ：
1990-01-24
发明人 ：
杨烈宇李国卿鲁济顺杨道正
申请人 ：
大连海运学院
申请人地址 ：
辽宁省大连市凌水桥
代理机构 ：
大连海运学院专利事务所
代理人 ：
焦宪长
优先权 ：
CN86102217.3
主分类号 ：
C23C8/36
IPC分类号 ：
C23C8/36
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C8/00
金属材料表面中仅渗入非金属元素的固渗；材料表面与一种活性气体反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理法，例如转化层、金属的钝化
C23C8/06
使用气体的
C23C8/36
使用电离气体的，例如离子氮化
法律状态
1992-08-19 ：
专利权的终止未缴纳年费专利权终止
1990-09-19 ：
授权
1990-01-24 ：
审定
1988-04-06 ：
实质审查请求
1987-10-21 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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