真空化学反应设备
被视为撤回的申请
摘要
在一种真空化学反应设备中，许多挂片座是从一挂片架径向地伸展出来的。大量的基片安置在各个挂片座的几乎整个表面上。每一个挂片座的形状，从正视图上看是一多边形。
基本信息
专利标题 ：
真空化学反应设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN86105600A
申请号 ：
CN86105600
公开（公告）日 ：
1987-02-04
申请日 ：
1986-07-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
麻莳立男
申请人 ：
日电阿尼尔瓦株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
吴大建
优先权 ：
CN86105600
主分类号 ：
C23C16/46
IPC分类号 ：
C23C16/46 C23C16/50 H01L21/302
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/46
以加热基体的方法为特征的
法律状态
1990-10-17 ：
被视为撤回的申请
1988-07-06 ：
实质审查请求
1987-02-04 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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