离子层对铝阴极的保护技术
驳回申请决定
摘要
一种离子层对铝阴极的保护技术属于气体放电电子器件生产工艺。该技术将锆铝汞片点焊在氧化的铝阴极上，再将铝阴极装入电子器件中并抽真空，再用高频电炉对铝阴极和锆铝汞片除气后，用高频炉加热线圈对锆铝汞片加热激活并同时释放汞蒸汽，形成汞离子保护层。该离子层可以保护铝冷阴极，防止溅射现象发生，延长该类器件的工作寿命。该技术已用于内腔式玻璃结构的氦氖激光管生产中。
基本信息
专利标题 ：
离子层对铝阴极的保护技术
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN86107507A
申请号 ：
CN86107507
公开（公告）日 ：
1988-06-15
申请日 ：
1986-10-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
王喜山
申请人 ：
山东师范大学
申请人地址 ：
山东省济南市文化东路
代理机构 ：
山东省高等院校专利事务所
代理人 ：
崔日新
优先权 ：
CN86107507
主分类号 ：
H01J9/02
IPC分类号 ：
H01J9/02 H01J1/30 H01S3/22
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J9/00
专用于制造放电管、放电灯及其部件的设备和方法；从放电管或灯回收材料
H01J9/02
电极或电极系统的制造
法律状态
1989-02-15 ：
驳回申请决定
1988-09-21 ：
实质审查请求
1988-06-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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