一种加氧化剂酸性硅溶胶抛光液的配制方法
公开
摘要
本发明是属于供抛光、主要是供岩石和矿物等地质样品抛光时用的加氧化剂酸性硅溶胶抛光液的配制方法。本发明所制备的硅溶胶抛光液为酸性。pH为2-3；堆积颗粒度为50-70mm；浓度为5％-25％。本发明所配置的抛光液干净清洁，对人体及环境无毒害、无污染；效果比其它抛光液好。
基本信息
专利标题 ：
一种加氧化剂酸性硅溶胶抛光液的配制方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1032021A
申请号 ：
CN88107422.5
公开（公告）日 ：
1989-03-29
申请日 ：
1988-11-01
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
施倪承施为德汪雪芳尹子芳
申请人 ：
中国地质大学(北京)
申请人地址 ：
北京市海淀区学院路29号
代理机构 ：
地质矿产部专利代理事务所
代理人 ：
薜居明
优先权 ：
CN88107422.5
主分类号 ：
C09G1/02
IPC分类号 ：
C09G1/02 C09K13/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09G
抛光组合物；滑雪屐蜡
C09G1/00
抛光组合物
C09G1/02
含有磨料或研磨剂
法律状态
1989-03-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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