制备多孔金属的工艺
专利申请的视为撤回
摘要

在一种制备可电解沉积的金属多孔层的工艺中,将一支持材料浸入于含该种金属离子的电解介质中,并使此金属在有一种氧化(性)物质存在时电解沉积于该支持材料上。此氧化(性)物质是一种与此金属反应而形成一种在沉积条件下可被还原的产物的物质。在本工艺的一种形式中,通过将氧气引入介质中从穿过支持材料附近,将一种金属以含有此金属离子的电解质水溶液中沉积于一支持材料上。

基本信息
专利标题 :
制备多孔金属的工艺
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1039851A
申请号 :
CN89106719.1
公开(公告)日 :
1990-02-21
申请日 :
1989-06-29
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
蒋振宗蒋三平陈衍珍尤金跨
申请人 :
北安普敦广场城市大学;埃塞克斯大学
申请人地址 :
英国伦敦
代理机构 :
中国专利代理有限公司
代理人 :
齐曾度
优先权 :
CN89106719.1
主分类号 :
C25C5/02
IPC分类号 :
C25C5/02  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25C
电解法生产、回收或精炼金属的工艺;其所用的设备
C25C5/00
金属粉末或多孔金属体的电解生产、回收或精炼
C25C5/02
自溶液
法律状态
1994-07-06 :
专利申请的视为撤回
1993-04-07 :
著录项目变更
变更事项 : 申请人
变更前 : 北安普敦广场城市大学
变更后 : 埃塞克斯大学
变更事项 : 地址
变更前 : 英国伦敦
变更后 : 英国科尔切斯特
变更事项 : 共同申请人
变更前 : 埃塞克斯大学
变更后 : 无
1991-10-02 :
实质审查请求已生效的专利申请
1990-02-21 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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