表面亚微米处理方法及设备
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
叙述了亚微米级表面变形的方法和设备，例如用于记录信息的目的。在扫描该表面期间，扫描隧道显微镜的尖端(14)由受控于尖端与表面间隧道电流的负反馈控制回路(18)保持于距离表面一恒定距离上，以及，为了在表面(15)上形成凹坑(21)，将控制回路去激励，并由一控制电压(Vpz)激励尖端高度驱动件(8)，该控制电压作为时间函数而增长并有预定终值，以使尖端下降而进入该材料。
基本信息
专利标题 ：
表面亚微米处理方法及设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1041468A
申请号 ：
CN89107454.6
公开（公告）日 ：
1990-04-18
申请日 ：
1989-09-18
授权号 ：
CN1020976C
授权日 ：
1993-05-26
发明人 ：
埃弗特·简·范洛恩伦
申请人 ：
菲利浦光灯制造公司
申请人地址 ：
荷兰艾恩德霍芬
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
何耀煌
优先权 ：
CN89107454.6
主分类号 ：
G11B3/00
IPC分类号 ：
G11B3/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G11
信息存储
G11B
基于记录载体和换能器之间的相对运动而实现的信息存储
G11B3/00
应用机械切割、变形或加压产生的记录，例如，沟纹或凹槽的切割、变形或加压；通过机械传感重现的；它们的记录载体
法律状态
1995-11-08 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1993-05-26 ：
授权
1991-09-18 ：
实质审查请求已生效的专利申请
1990-04-18 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
