一种表面处理方法和设备
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
一种在一表面上产生均匀薄膜的方法和装置，包括使该表面与一薄膜沉积室的薄膜沉积区之间产生恒速相对运动，以使该表面通过该沉积区。沉积室设计成使在沉积区中在表面上的薄膜沉积在横跨该表面的横向方向上是均匀的。该横向方向垂直于相对运动的方向。
基本信息
专利标题 ：
一种表面处理方法和设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1059763A
申请号 ：
CN91105094.9
公开（公告）日 ：
1992-03-25
申请日 ：
1991-06-28
授权号 ：
CN1050158C
授权日 ：
2000-03-08
发明人 ：
杰弗里·诺曼·佩恩
申请人 ：
杰弗里·诺曼·佩恩
申请人地址 ：
澳大利亚维多利亚州
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
林道棠
优先权 ：
CN91105094.9
主分类号 ：
C23C16/44
IPC分类号 ：
C23C16/44 C23C14/22
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
法律状态
2006-08-30 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
2002-06-12 ：
其他有关事项
2000-03-08 ：
授权
1993-10-20 ：
实质审查请求的生效
1992-03-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
