对称双光束基准光平面发生器
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
一种对称双光束基准光平面发生器，属于机械几何量形位误差测量领域。本实用新型是由四块光学元件及相应的机械夹持调节机械组成。本装置可产生两束对称光束进行水平方向扫描，这两束光的对称线构成基准光平面，可用于大尺寸高精度平面度测量，特别适合形状复杂的大工件平面度测量，测量精度可达0.5×10-6(L为测量点到出光点的距离，单位米)。
基本信息
专利标题 ：
对称双光束基准光平面发生器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN89200978.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
1989-01-27
授权号 ：
CN2050966U
授权日 ：
1990-01-10
发明人 ：
刘兴占陈博一梁晋文花国梁
申请人 ：
清华大学
申请人地址 ：
北京市海淀区清华园
代理机构 ：
清华大学专利事务所
代理人 ：
廖元秋
优先权 ：
CN89200978.0
主分类号 ：
G01B11/24
IPC分类号 ：
G01B11/24
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/24
用于计量轮廓或曲率
法律状态
1993-05-26 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1990-08-22 ：
授权
1990-01-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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