新型压力敏感器件
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
新型压力敏感器件是一种由高平整度硅膜片制备的力敏传感器，由硅层、介质层和硅膜片组成，其特点是硅膜片由高平整度和均匀厚度的硅膜片构成，它采用异质材料在同一腐蚀液中腐蚀速率的显著差异制成，将异质结界面作为腐蚀自停止界面，使腐蚀后的硅膜片具有高平整度和均匀的厚度，从而保证了压力敏感器件具有较高的精度和较好的一致性。
基本信息
专利标题 ：
新型压力敏感器件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN89205181.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
1989-06-23
授权号 ：
CN2064504U
授权日 ：
1990-10-24
发明人 ：
吕世骥
申请人 ：
东南大学
申请人地址 ：
210018江苏省南京市四牌楼2号
代理机构 ：
东南大学专利事务所
代理人 ：
楼高潮
优先权 ：
CN89205181.7
主分类号 ：
G01L1/14
IPC分类号 ：
G01L1/14 H01L49/00
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01L
测量力、应力、转矩、功、机械功率、机械效率或流体压力
G01L1/00
力或应力的一般计量
G01L1/14
通过测量电元件的电容量或电感量的变化，例如，测量电振荡器的频率变化
法律状态
1993-05-19 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1991-06-05 ：
授权
1990-10-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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