真空低温等离子体沉积假捻器摩擦盘的方法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
真空低温等离子体沉积假捻器摩擦盘技术是一种新的制作高速纺丝假捻变形加工用摩擦盘的技术。这种技术，是在真空中，由水冷阴极制成的蒸发的离化源，在电磁场的作用下，形成弧光等离子体，使阴极靶面均匀的熔蚀、蒸发、离化与活性气体作用，以金属的化合物结构沉积在摩擦盘基体上。用这种方法制作的摩擦盘，镀层致密，附着力强，颗粒度及表面粗糙度可控，可取代国内外传统用等离子体喷射方法。沉积后无需二次加工，镀层均匀。
基本信息
专利标题 ：
真空低温等离子体沉积假捻器摩擦盘的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1069087A
申请号 ：
CN91105060.4
公开（公告）日 ：
1993-02-17
申请日 ：
1991-07-29
授权号 ：
CN1028885C
授权日 ：
1995-06-14
发明人 ：
袁磊费兰香刘金聚吴晓丹王向东王斐袁瑞明
申请人 ：
袁磊
申请人地址 ：
100016北京市朝阳区酒仙桥芳园里一楼37号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN91105060.4
主分类号 ：
D02G1/04
IPC分类号 ：
D02G1/04 D01H7/92
IPC结构图谱
D
D部——纺织；造纸
D02
纱线；纱线或绳索的机械整理；整经或络经
D02G
纤维；长丝；纱或线的卷曲；纱或线
D02G1/00
制造卷曲的纤维、长丝、纱或线，给其以潜在特性
D02G1/02
采用加捻、定捻和解捻，即施加假捻
D02G1/04
施加假捻的装置
法律状态
1996-09-11 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1995-06-14 ：
授权
1993-02-17 ：
公开
1992-12-30 ：
实质审查请求已生效的专利申请
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
