真空蒸发设备
专利权的终止
摘要
一种真空蒸发设备，包括一真空容器，一蒸发源和一夹持装置。蒸发源位于真空容器内。一基片由位于蒸发源上方的夹持装置夹持。一防沉积板设置于设备内。真空容器由防沉积板划分成一包括蒸发源的部分和一包括夹持装置的部分。防沉积板带有位于蒸发源上方的孔。孔这样成形，即当从蒸发源看夹持装置时孔与夹持装置重叠。$＃!
基本信息
专利标题 ：
真空蒸发设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1070434A
申请号 ：
CN92110361.1
公开（公告）日 ：
1993-03-31
申请日 ：
1992-09-08
授权号 ：
CN1064720C
授权日 ：
2001-04-18
发明人 ：
早川菜龟山诚寺田顺司铃木博幸
申请人 ：
佳能株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
曾祥凌
优先权 ：
CN92110361.1
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2012-11-14 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101347530189
IPC(主分类) : C23C 14/24
专利号 : ZL921103611
申请日 : 19920908
授权公告日 : 20010418
终止日期 : 20110908
号牌文件序号 : 101347530189
IPC(主分类) : C23C 14/24
专利号 : ZL921103611
申请日 : 19920908
授权公告日 : 20010418
终止日期 : 20110908
2001-04-18 ：
授权
1995-02-22 ：
实质审查请求的生效
1993-03-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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