一种氧化铁版的制备方法
专利申请的视为撤回
摘要
一种氧化铁版的制备方法，该方法采用聚乙烯二茂铁取代已有技术中的五羰基铁。聚乙烯二茂铁是起掩膜材料和感光胶双重作用，用于电子束制版时使掩膜制造和光刻图形一步完成，简化了工艺，降低了成本，提高了掩膜质量，解决了已有技术中五羰基铁造成的毒害和污染问题。
基本信息
专利标题 ：
一种氧化铁版的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1073776A
申请号 ：
CN92113981.0
公开（公告）日 ：
1993-06-30
申请日 ：
1992-12-31
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
刘瑞兰于全训杜长英李来仲
申请人 ：
山东师范大学
申请人地址 ：
250014山东省济南市文化东路88号
代理机构 ：
山东省高等院校专利事务所
代理人 ：
李荣升
优先权 ：
CN92113981.0
主分类号 ：
G03F1/00
IPC分类号 ：
G03F1/00 G03F7/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
法律状态
1999-04-07 ：
专利申请的视为撤回
1994-02-16 ：
实质审查请求的生效
1993-06-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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