溅射氧化铁薄膜的制备
专利权的视为放弃
摘要
氧化铁薄膜Fe3O4是计算机硬盘应用的一种主要介质，该发明一步法加水蒸汽溅射氧化铁薄膜，是一种全新的工艺，是由纯铁(加钴)靶，经反应溅射采用该法制备的Fe3O4薄膜，其饱和磁化强度Ms达450—470emu/cc，再经过空气中加热氧化生成rFe2O3其Ms值可达360emu/cc，薄膜的矫顽力可达300—1300Oe，该发明制备的氧化铁薄膜磁性较强，工艺稳定性好且宽容度大，溅射速率高，晶粒均匀，缺欠很少。
基本信息
专利标题 ：
溅射氧化铁薄膜的制备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1045997A
申请号 ：
CN89101807.7
公开（公告）日 ：
1990-10-10
申请日 ：
1989-04-01
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
周增均
申请人 ：
北京大学
申请人地址 ：
北京市海定区中关村北京大学
代理机构 ：
北京大学专利事务所
代理人 ：
陈美章
优先权 ：
CN89101807.7
主分类号 ：
C23C14/08
IPC分类号 ：
C23C14/08 C23C14/34 G11B5/84 H01F41/18
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/06
以镀层材料为特征的
C23C14/08
氧化物
法律状态
1994-01-05 ：
专利权的视为放弃
1990-10-10 ：
公开
1989-09-20 ：
实质审查请求
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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