微米、亚微米电子束曝光机工作台的吊装系统
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
一种微米、亚微米电子束曝光机工作台的吊装系统，属于光刻技术领域，由工作台、激光检测系统、真空箱、吊杆组成，其特征在于：镜筒、工作台、激光检测系统有共同的安装基准一真空箱顶板。大大减少了定位误差、图形误差，提高了套准精度和拼接精度，选用青花岗石做工作台大底座，刚性好、重量轻（为钢材的１／２．５），价格便宜，工艺性好，选材方便。
基本信息
专利标题 ：
微米、亚微米电子束曝光机工作台的吊装系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1103724A
申请号 ：
CN93115250.X
公开（公告）日 ：
1995-06-14
申请日 ：
1993-12-08
授权号 ：
CN1050204C
授权日 ：
2000-03-08
发明人 ：
周振华王国瑕赵冬青周锋
申请人 ：
山东工业大学
申请人地址 ：
250014山东省济南市经十路73号
代理机构 ：
山东工业大学专利事务所
代理人 ：
张希华
优先权 ：
CN93115250.X
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2003-01-29 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
2000-03-08 ：
授权
1995-06-14 ：
公开
1994-10-12 ：
实质审查请求的生效
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
