制备照相胶片用片基薄膜的方法

专利权的终止

摘要

照相胶片用片基薄膜制备方法，其特征是（ａ）厚度方向的折射率（ｎｚ）至少是１．４９８，（ｂ）雾霾值在２．０％以下，（ｃ）有一个方向在０．０５Ｈｚ的依赖于拉伸粘弹性的８０℃的ｔａｎδ值在０．０９以下，（ｄ）在７０℃的抗卷曲率在４５％以上，（ｅ）厚度在４０—１２０μｍ范围内，（ｆ）以聚２，６－萘二甲酸乙二醇酯为实质性原料。该片基薄膜具有抗卷曲性、透明性和滑动性等适合作为照相胶片使用的性能。

基本信息

专利标题：

制备照相胶片用片基薄膜的方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1102289A

申请号：

CN94190058.4

公开（公告）日：

1995-05-03

申请日：

1994-02-07

授权号：

CN1054924C

授权日：

2000-07-26

发明人：

冈本弘加藤光太郎富田博史铃木贤司齐藤一义

申请人：

帝人株式会社

申请人地址：

日本大阪府大阪市

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

钟守期

优先权：

CN94190058.4

主分类号：

G03C1/795

IPC分类号：

G03C1/795 G03C1/81

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03C

照相用的感光材料；照相过程，例如，电影、X射线、彩色、或者立体照相过程；照相的辅助过程

G03C1/00

感光材料

G03C1/76

以基底或辅助层表征的感光材料

G03C1/795

由大分子物质形成的基底

法律状态

2011-04-20 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101063890779
IPC(主分类) : G03C 1/795
专利号 : ZL941900584
申请日 : 19940207
授权公告日 : 20000726
终止日期 : 20100207

2000-07-26 ：

授权

1996-05-22 ：

实质审查请求的生效

1995-05-03 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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1、

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