离子交换玻璃光波导器件的制作方法
专利权的终止
摘要

本发明公开了一种离子交换玻璃光波导器件的制作方法。该方法是将玻璃片浸没在熔融的交换源中进行离子交换形成平面波导层;在清洁的玻璃离子交换层表面上采用光刻工艺刻出光波导图形;用光刻胶膜作干法刻蚀的掩膜,干法刻蚀玻璃离子交换层;湿法腐蚀以光滑波导侧面;在波导刻蚀后的玻璃表面用射频溅射或等离子增强化学气相淀积技术工艺,淀积一层二氧化硅层,形成掩埋型波导。本发明与背景技术的离子交换波导相比,它需要进行多次离子交换,而且需要用电场辅助离子交换技术,在本技术中不需要进行多次离子交换,也没有电场辅助扩散过程,而且波导的截面完全由光刻来控制。

基本信息
专利标题 :
离子交换玻璃光波导器件的制作方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1746707A
申请号 :
CN200510061049.9
公开(公告)日 :
2006-03-15
申请日 :
2005-10-11
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
李锡华王明华江晓清吕金良许坤良周海权
申请人 :
浙江南方通信集团股份有限公司;浙江大学
申请人地址 :
313009浙江省湖州市南浔镇人瑞路1199号
代理机构 :
杭州求是专利事务所有限公司
代理人 :
林怀禹
优先权 :
CN200510061049.9
主分类号 :
G02B6/13
IPC分类号 :
G02B6/13  G02B6/136  G03F1/08  C03C21/00  C03C15/00  C03C17/245  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B6/00
光导;包含光导和其他光学元件的装置的结构零部件
G02B6/10
光波导式的
G02B6/12
集成光路类型
G02B6/13
以制作方法为特征的集成光路
法律状态
2017-11-24 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G02B 6/13
申请日 : 20051011
授权公告日 : 20090520
终止日期 : 20161011
2009-05-20 :
授权
2006-05-10 :
实质审查的生效
2006-03-15 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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