掩埋型玻璃光波导器件的制作方法
专利权的终止
摘要

本发明公开了一种掩埋型玻璃光波导器件的制作方法。该方法是在玻璃表面采用真空蒸发或溅射方法淀积一层金属薄膜,利用光刻工艺刻出光波导图形,形成离子交换掩膜;将刻好的玻璃片放入交换源中,利用离子交换技术在玻璃衬底表面形成光波导;放入硝酸钠融盐中在电场下进行电场辅助离子交换;交换后的玻璃表面用射频溅射或者等离子增强化学气相淀积方法淀积一层二氧化硅层,形成掩埋型波导。本发明用玻璃作为衬底材料利用离子交换技术制作光波导器件不仅材料价格低,而且具有制作技术简单、制作工艺简单成熟、器件损耗低、与光的偏振无关、容易集成,并且由于玻璃的折射率与光纤折射率相近,易于与光纤耦合等优点。

基本信息
专利标题 :
掩埋型玻璃光波导器件的制作方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1746708A
申请号 :
CN200510061050.1
公开(公告)日 :
2006-03-15
申请日 :
2005-10-11
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
李锡华王明华江晓清吕金良许坤良周海权
申请人 :
浙江南方通信集团股份有限公司;浙江大学
申请人地址 :
313009浙江省湖州市南浔镇人瑞路1199号
代理机构 :
杭州求是专利事务所有限公司
代理人 :
林怀禹
优先权 :
CN200510061050.1
主分类号 :
G02B6/13
IPC分类号 :
G02B6/13  G02B1/10  C03C21/00  C03C15/00  C03C17/245  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B6/00
光导;包含光导和其他光学元件的装置的结构零部件
G02B6/10
光波导式的
G02B6/12
集成光路类型
G02B6/13
以制作方法为特征的集成光路
法律状态
2017-11-24 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G02B 6/13
申请日 : 20051011
授权公告日 : 20071017
终止日期 : 20161011
2007-10-17 :
授权
2006-05-10 :
实质审查的生效
2006-03-15 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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