离子掩模法制作玻璃掩埋光波导器件的方法

专利权的终止

摘要

一种离子掩模法制作玻璃掩埋光波导器件的方法。包括用真空蒸发或者射频溅射技术在玻璃表面淀积一层金属铝薄膜；用常规光刻工艺刻出光功分器图形，这里，将要形成波导的区域表面有金属薄膜覆盖，而非波导区的金属薄膜在光刻时被除去；接着用离子交换技术进行钾－钠离子交换制作离子掩膜；去掉金属掩膜后，进行银－钠离子交换；然后是钠离子交换使表面的钾、银离子浓度降低，形成掩埋的光波导；最后进行退火处理。本发明用交换离子层作掩膜，掩膜本身深入玻璃表层内部，具有数微米的深度，这样它不仅在深度方向上限制了离子的交换，而且在玻璃表层的横向也限制了离子的横向扩散，使波导的深宽比得到提高，有利于制作深掩埋的圆形波导。

基本信息

专利标题：

离子掩模法制作玻璃掩埋光波导器件的方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1746709A

申请号：

CN200510061073.2

公开（公告）日：

2006-03-15

申请日：

2005-10-12

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

李锡华王明华江晓清吕金良许坤良周海权

申请人：

浙江南方通信集团股份有限公司;浙江大学

申请人地址：

313009浙江省湖州市南浔镇人瑞路1199号

代理机构：

杭州求是专利事务所有限公司

代理人：

林怀禹

优先权：

CN200510061073.2

主分类号：

G02B6/134

IPC分类号：

G02B6/134