蓝宝石晶片纳米级超光滑加工工艺
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明涉及光电子器件的加工方法技术领域，尤其是一种制备蓝色发光二极管(LED)氮化镓(GaN)所用的蓝宝石衬底晶片的加工工艺，该加工工艺由粘片、塑性域磨削、研磨、粗抛、精抛、净化等几个步骤组成；本发明还涉及蓝宝石衬底晶片加工过程中使用的专用研磨液、腐蚀液、抛光液和清洗液，所述的专用研磨液由：球状聚晶金刚石微粉、橄榄油、煤油、色拉油构成；专用腐蚀液由：硫酸、磷酸、硝酸构成；专用抛光液则由溶胶型SiO2、聚氧乙烯、橄榄油、醇胺以及去离子水构成；专用清洗液由：三氯乙烷、丙酮、A清洗液、B清洗液构成；当上述加工工艺和专用的研磨液、腐蚀液、抛光液和清洗液配合使用时，可以获得开盒即用的、无损伤层的、晶格完整的、蓝宝石晶体表面，表面粗糙度达到0.2纳米以下，满足氮化镓外延生长所需的本征化蓝宝石衬底表面，不
基本信息
专利标题 ：
蓝宝石晶片纳米级超光滑加工工艺
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1833816A
申请号 ：
CN200510095519.3
公开（公告）日 ：
2006-09-20
申请日 ：
2005-11-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
周海
申请人 ：
周海
申请人地址 ：
224003江苏省盐城市黄海中路20号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN200510095519.3
主分类号 ：
B24B7/20
IPC分类号 ：
B24B7/20 B24B37/04 B24B29/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B7/00
适用于磨削工件平面的机床或装置，包括抛光平面玻璃表面；及其附件
B24B7/20
以被磨非金属制品的材料性质为特征专门设计的
法律状态
2008-12-10 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-11-22 ：
实质审查的生效
2006-09-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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