锂离子电池集流体铜箔的表面处理方法
专利权的终止
摘要
本发明公开了一种对厚度≤18μm高性能锂离子电池集流体铜箔的表面处理方法，该方法通过对铜箔进行粗化处理、覆盖处理和防锈处理提高了铜箔与活性物质的粘结力。粗化处理是在铜离子浓度为5～20g/l，硫酸浓度为50～200g/l，亚锡离子浓度0.1～5g/l和钨离子浓度为0.001～0.5g/l组成的粗化处理液中，在温度15℃～40℃，电流密度为0.1～0.6A/cm2的条件下进行5～15s阴极电解后取出，并用去离子水清洗1～5次；覆盖处理是在铜离子浓度为30～80g/l，硫酸浓度为50～200g/l，硫脲浓度为0.0001～0.1g/l和氯离子浓度为0.01～1g/l组成的覆盖处理液中，在温度15℃～40℃，电流密度为0.01～0.3A/cm2的条件下进行30～150s电解后取出，并用去离子水清洗1～5次；防锈处理一般是在温度为15℃～50℃的BTA中进行150～300s除锈处理后取出，并用水清洗1～5次，然后烘干，即得到具有树枝状结构
基本信息
专利标题 ：
锂离子电池集流体铜箔的表面处理方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1761087A
申请号 ：
CN200510108005.7
公开（公告）日 ：
2006-04-19
申请日 ：
2005-10-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
张世超
申请人 ：
北京中科天华科技发展有限公司
申请人地址 ：
100083北京市海淀区学院路37号
代理机构 ：
北京永创新实专利事务所
代理人 ：
周长琪
优先权 ：
CN200510108005.7
主分类号 ：
H01M4/04
IPC分类号 ：
H01M4/04 H01M4/64 B23H3/00 H01M10/40
法律状态
2015-11-25 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101635081421
IPC(主分类) : H01M 4/04
专利号 : ZL2005101080057
申请日 : 20051009
授权公告日 : 20080702
终止日期 : 20141009
号牌文件序号 : 101635081421
IPC(主分类) : H01M 4/04
专利号 : ZL2005101080057
申请日 : 20051009
授权公告日 : 20080702
终止日期 : 20141009
2008-07-02 ：
授权
2006-06-07 ：
实质审查的生效
2006-04-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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