粒子监测装置和真空处理装置

专利权的终止

摘要

本发明提供的粒子监测装置，能够防止或降低监测出的散射光强度，相应于气流通过区域中的粒子通过位置产生变化，从而可以提高对粒子尺寸的监测精度。其方式是由激光光源(10)射出呈一维形式排列的10条激光光束(L1、......L10)，通过投射光学系统(20)将这些光束(L1、......L10)转换为整体呈一条带状(带状宽度方向为d)的光束(L0)，并且按照使所述光束(L0)的光强度，在半导体制造工序(200)的气流贯穿区域(R)中相对其带状宽度方向(d)呈大致均匀分布的方式，使由激光光源(10)射出的10条激光光束(L1、......L10)部分彼此重合。

基本信息

专利标题：

粒子监测装置和真空处理装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1776400A

申请号：

CN200510114966.9

公开（公告）日：

2006-05-24

申请日：

2005-11-16

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

岩阳一郎宫川一宏齐藤进

申请人：

株式会社拓普康;东京毅力科创株式会社

申请人地址：

日本东京

代理机构：

北京中原华和知识产权代理有限责任公司

代理人：

寿宁

优先权：

CN200510114966.9

主分类号：

G01N15/02

IPC分类号：

G01N15/02 G01N21/51 H01L21/66

IPC结构图谱

G部——物理

G01

测量；测试

G01N

借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料

G01N15/00

测试颗粒的特性；测试多孔材料的渗透性，孔隙体积或者孔隙表面积

G01N15/02

测试颗粒的粒度或粒经分布

法律状态

2018-01-05 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G01N 15/02
申请日 : 20051116
授权公告日 : 20090805
终止日期 : 20161116

2013-01-16 ：

专利申请权、专利权的转移

专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101496595802
IPC(主分类) : G01N 15/02
专利号 : ZL2005101149669
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 株式会社拓普康
变更后权利人 : 东京毅力科创株式会社
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本东京
变更后权利人 : 日本东京都港区赤坂5丁目3番1号107-6325
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 东京毅力科创株式会社
变更后权利人 : 无
登记生效日 : 20121217

2009-08-05 ：

授权

2006-07-19 ：

实质审查的生效

2006-05-24 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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1、

CN100523780C.PDF

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2、

CN1776400A.PDF

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