镍－铜－银多层膜的制备方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明公开了一种镍－铜－银多层膜的制备方法。本发明以硫酸铜，硫酸镍，硝酸银等为原料配制成沉积多层膜的溶液，采用电化学沉积的方法，制备软硬相交替的镍－铜－银多层膜。该方法的特点是：设备和工艺过程简单，沉积温度较低，避免了物理方法沉积时高温下材料内部引入的热应力和层间热扩散。实验结果表明：本发明所涉及的镍－铜－银多层膜在真空环境下有良好的摩擦学性能，有望成为解决空间环境中材料的保护和润滑问题的有效手段。
基本信息
专利标题 ：
镍－铜－银多层膜的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1966779A
申请号 ：
CN200510125524.4
公开（公告）日 ：
2007-05-23
申请日 ：
2005-11-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
刘维民石雷
申请人 ：
中国科学院兰州化学物理研究所
申请人地址 ：
730000甘肃省兰州市城关区天水中路18号
代理机构 ：
兰州中科华西专利代理有限公司
代理人 ：
方晓佳
优先权 ：
CN200510125524.4
主分类号 ：
C25D5/12
IPC分类号 ：
C25D5/12
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸；工件的电解法接合；所用的装置
C25D5/00
以工艺方法为特征的电镀；工件的预处理或后处理
C25D5/10
一层以上相同金属或不同金属的电镀
C25D5/12
至少有一层为镍或铬
法律状态
2010-01-27 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-07-18 ：
实质审查的生效
2007-05-23 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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