本发明提供了一种半导体设备中气体校准的方法。经过质量流量计通入一定量的气体至一封闭的腔室，通过测量腔室通入气体前后压强的变化，利用气体状态方程计算出其内部气体质量的变化，进而判断质量流量计是否正常工作。本发明采用以上气体校验方法，与已有技术相比，其校准范围可以更大，校准更快，而且基本不需要额外设备，费用低廉，达到了较好的校准结果。