单模量子级联激光器的器件结构及制作方法
专利权的终止
摘要

一种单模量子级联激光器的器件结构,包括:一n型磷化铟衬底;一n型铟镓砷下波导层制作在n型磷化铟衬底上;35个周期铟镓砷/铟铝砷交替的有源层制作在下波导层上;一n型铟镓砷上波导层制作在有源层上;一n型铟铝砷上包层制作在n型铟镓砷上波导层上;一n型铟镓砷高掺杂接触层制作在n型铟铝砷上包层上;一n型铟镓砷欧姆接触层制作在n型铟镓砷高掺杂接触层上;一SiO2电绝缘层制作在整个材料的上表面及双沟脊形结构的侧壁,该SiO2电绝缘层的之间为断开,形成电流注入窗口;一正面n型电极制作在SiO2电绝缘层上;一背面n型电极制作在n型磷化铟衬底的背面。

基本信息
专利标题 :
单模量子级联激光器的器件结构及制作方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1983750A
申请号 :
CN200510126478.X
公开(公告)日 :
2007-06-20
申请日 :
2005-12-14
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
郭瑜刘峰奇刘俊岐王占国
申请人 :
中国科学院半导体研究所
申请人地址 :
100083北京市海淀区清华东路甲35号
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
汤保平
优先权 :
CN200510126478.X
主分类号 :
H01S5/22
IPC分类号 :
H01S5/22  H01S5/343  H01S5/065  H01S5/00  
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法律状态
2012-02-22 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101190111830
IPC(主分类) : H01S 5/22
专利号 : ZL200510126478X
申请日 : 20051214
授权公告日 : 20080528
终止日期 : 20101214
2008-05-28 :
授权
2007-08-15 :
实质审查的生效
2007-06-20 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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