镍磷合金镀层的电沉积方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明涉及一种在钢铁、铜等工件表面获取优质Ni－P合金镀层的电沉积方法。采用超声波搅拌方式，施镀温度为60－70℃条件下，在含有硫酸镍，氯化镍，硼酸和亚磷酸组成的镀液中施镀(不含任何有机添加剂)，可以高速沉积出致密均匀、与工件牢固结合，含磷量为8－15wt％的全光亮Ni－P合金镀层。本发明的特点在于：原料成本低，施镀温度低，镀层沉积速率可达到3μm/min，同时制备的全光亮Ni－P合金镀层具有优异的综合性能。该工艺有望改变当前电镀法制备Ni－P合金所存在的施镀温度高，镀液中有机添加剂含量多，镀层质量差等缺点。
基本信息
专利标题 ：
镍磷合金镀层的电沉积方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1978710A
申请号 ：
CN200510129879.0
公开（公告）日 ：
2007-06-13
申请日 ：
2005-12-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
薛群基王立平高燕徐洮
申请人 ：
中国科学院兰州化学物理研究所
申请人地址 ：
730000甘肃省兰州市城关区天水中路18号
代理机构 ：
兰州中科华西专利代理有限公司
代理人 ：
方晓佳
优先权 ：
CN200510129879.0
主分类号 ：
C25D3/56
IPC分类号 ：
C25D3/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸；工件的电解法接合；所用的装置
C25D3/00
电镀；其所用的镀液
C25D3/02
溶液
C25D3/56
合金的
法律状态
2010-01-27 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-08-08 ：
实质审查的生效
2007-06-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
