增加基于基质的离子源的高分辨率成像的景深

发明专利申请公布后的视为撤回

摘要

本发明提供了一种方法，用于产生离子源的样品板上区域的对焦图像，该离子源例如是基于基质的离子源、或采用了其上沉积有样品的样品板的任意其他类型的离子源。该方法一般包括：a)在成像设备的视场中定位样品板的一个区域；b)产生该区域的具有不同对焦区的多个图像；以及c)使用这多个图像生成该区域的对焦图像。该对焦图像可以是二维的或三维的。本发明还提供了用于执行这些方法的系统和程序。

基本信息

专利标题：

增加基于基质的离子源的高分辨率成像的景深

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1888880A

申请号：

CN200510130197.1

公开（公告）日：

2007-01-03

申请日：

2005-12-19

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

琼－鲁克·图克格雷戈·欧瓦内

申请人：

安捷伦科技有限公司

申请人地址：

美国加利福尼亚州

代理机构：

北京东方亿思知识产权代理有限责任公司

代理人：

王怡

优先权：

CN200510130197.1

主分类号：

G01N23/04

IPC分类号：

G01N23/04 G06K9/00 H01J49/26

IPC结构图谱

G部——物理

G01

测量；测试

G01N

借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料

G01N23/00

利用波或粒子辐射来测试或分析材料，例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子

G01N23/02

通过使辐射透过材料

G01N23/04

并形成材料的图片

法律状态

2010-07-21 ：

发明专利申请公布后的视为撤回

号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101003373631
IPC(主分类) : G01N 23/04
专利申请号 : 2005101301971
公开日 : 20070103

2007-02-28 ：

实质审查的生效

2007-01-03 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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