相位差薄膜及其制造方法、光学功能薄膜、偏振光薄膜以及显示...
专利权的终止
摘要

本发明提供一种双轴性相位差薄膜,其是在高分子薄膜内含有具有折射率各向异性的材料而成,上述具有折射率各向异性的材料在上述高分子薄膜的厚度方向具有浓度梯度。由此可以提供不存在在形成相位差层时产生的相位差层从基材剥离等问题、可靠性高、可以扩大得到的厚度方向和面内方向延迟值的范围、且即使是少量也可以容易地得到任意的厚度方向和面内方向延迟值的双轴性相位差薄膜及其制造方法、使用该相位差层的光学功能薄膜、偏振光薄膜以及显示装置。

基本信息
专利标题 :
相位差薄膜及其制造方法、光学功能薄膜、偏振光薄膜以及显示装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1934471A
申请号 :
CN200580009275.0
公开(公告)日 :
2007-03-21
申请日 :
2005-11-16
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
鹿岛启二梁谷岳史白井贤治
申请人 :
大日本印刷株式会社
申请人地址 :
日本国东京都
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
李贵亮
优先权 :
CN200580009275.0
主分类号 :
G02B5/30
IPC分类号 :
G02B5/30  G02F1/13363  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/30
偏振元件
法律状态
2020-10-30 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G02B 5/30
申请日 : 20051116
授权公告日 : 20090311
终止日期 : 20191116
2009-03-11 :
授权
2007-08-08 :
实质审查的生效
2007-03-21 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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