细长的气体分配系统
专利权的终止
摘要
描述一种用于等离子沉积或等离子清洁设备中的细长的气体分配系统。该系统以堆叠细长板条的形式设备。所述板条中铣有凹槽,这些凹槽在板条彼此上下堆叠后便形成通道。这种设置是特别灵活的设计,可供精细分叉的气体分配树状结构之用。还可以在气体分配系统内部或其上装有气流控制装置,比如阀或叶片。通过根据等离子体、沉积层或清洁的基片反馈参数的输入对气流控制装置的驱动,实现气体分配系统的快速反应。此外,某些板条可用于结合冷却回路,以便冷却细长的气体分配系统。
基本信息
专利标题 :
细长的气体分配系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101040061A
申请号 :
CN200580034637.1
公开(公告)日 :
2007-09-19
申请日 :
2005-10-04
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
A·布隆迪尔W·德博斯谢尔P·戈德里斯I·范德皮特
申请人 :
贝卡尔特先进涂层公司
申请人地址 :
比利时丹泽
代理机构 :
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 :
张祖昌
优先权 :
CN200580034637.1
主分类号 :
C23C16/455
IPC分类号 :
C23C16/455 H01J37/32
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2017-11-24 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C23C 16/455
申请日 : 20051004
授权公告日 : 20110706
终止日期 : 20161004
申请日 : 20051004
授权公告日 : 20110706
终止日期 : 20161004
2012-11-14 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101462154544
IPC(主分类) : C23C 16/455
专利号 : ZL2005800346371
变更事项 : 专利权人
变更前 : 贝卡尔特先进涂层公司
变更后 : 梭莱先进镀膜股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 比利时丹泽
变更后 : 比利时丹泽
号牌文件序号 : 101462154544
IPC(主分类) : C23C 16/455
专利号 : ZL2005800346371
变更事项 : 专利权人
变更前 : 贝卡尔特先进涂层公司
变更后 : 梭莱先进镀膜股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 比利时丹泽
变更后 : 比利时丹泽
2011-07-06 :
授权
2007-12-05 :
实质审查的生效
2007-09-19 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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