本发明的实施例关于一种气体分配系统，其可将气体均匀地分配至制程处理室。于一实施例中，气体分配系统包括一气体环，其包括一外表面及一内表面；以及一气体入口，设在该气体环的外表面处。该气体入口是可流通地与一第一通道耦接，该第一通道是设在气体环的外表面及内表面之间。数个气体出口分配在气体环内表面，且是可流通地与一设于气体环外表面及内表面之间的第二通道相耦接。数个孔洞是可流通地耦接于第一通道及第二通道之间。数个孔洞与气体入口相隔若干距离，且尺寸随着沿该第一通道测量的气体入口的距离而改变，以使孔洞尺寸随着沿该第一通道测量的孔洞及气体入口间的距离的增加而增加。