用于分配工艺气体的喷头和物理气相沉积设备
授权
摘要
本实用新型涉及一种用于分配工艺气体的喷头，包括：总气流管，其被配置为将工艺气体输入到分气流管中；恒温管，其被配置为将恒温液输入到部分地包围气室的恒温器中；恒温器，其被配置为对喷头中用于容纳工艺气体的气室进行热隔离；多个喷淋板，所述多个喷淋板在其厚度方向上彼此间隔一定距离地布置在所述气室中，使得所述气室被所述多个喷淋板分隔成多个子气室，其中所述喷淋板具有允许工艺气体透过的穿孔；第一分气流管，其被配置为将工艺气体引入到所述多个子气室至少之一的中部；以及第二分气流管，其被配置为将工艺气体引入到所述多个子气室至少之一的边缘处。通过本实用新型，可改善目标薄膜的厚度均匀性。
基本信息
专利标题 ：
用于分配工艺气体的喷头和物理气相沉积设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920979542.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-26
授权号 ：
CN210215520U
授权日 ：
2020-03-31
发明人 ：
何文薛超林宗贤
申请人 ：
德淮半导体有限公司
申请人地址 ：
江苏省淮安市淮阴区长江东路599号
代理机构 ：
上海智晟知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
李镝的
优先权 ：
CN201920979542.6
主分类号 ：
C23C14/22
IPC分类号 ：
C23C14/22
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
法律状态
2020-03-31 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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