追踪方法及设备
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
在通过相对于追踪表面沿预定方向移动各自包括空间光学调制装置和光学系统的多个追踪头执行追踪的追踪方法中，因环境温度变化而引起的追踪头的相对位置关系的变化被最小化。多个空间光学调制装置34a、34b被设置在单个追踪头30内，并且，使用共同的光学系统36、37和38将经所述多个空间光学调制装置34a、34b调制的光聚焦在追踪表面12a上，以减少追踪头30的数量。
基本信息
专利标题 ：
追踪方法及设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101057183A
申请号 ：
CN200580035333.7
公开（公告）日 ：
2007-10-17
申请日 ：
2005-10-13
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
江尻铁平尾崎多可雄冈崎洋二
申请人 ：
富士胶片株式会社
申请人地址 ：
日本国东京都
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
张成新
优先权 ：
CN200580035333.7
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03B27/32 H01L21/027
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IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
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G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
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G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2008-07-02 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-10-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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