一种用于承载可转动的溅射靶材的扁平端块

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

摘要

本发明披露了一种用于管状磁控溅射设备的端块。这种端块将运动，冷却剂(5)以及电流可转动地传递至靶材上，同时，保持真空的完整性以及封闭的冷却剂回路。该端块包括驱动装置，旋转式电接触装置，支承装置，多个旋转式冷却剂密封装置，多个真空密封装置。本发明的端块沿靶材占据最小的轴向长度，从而允许在如显示器涂镀器这样的现存设备(10)中节省空间。通过径向彼此相对安装至少两个装置，能够减小轴向长度。

基本信息

专利标题：

一种用于承载可转动的溅射靶材的扁平端块

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101044257A

申请号：

CN200580035605.3

公开（公告）日：

2007-09-26

申请日：

2005-10-11

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

K·德拉尔特W·德博斯谢尔J·德博埃韦尔G·拉佩勒

申请人：

贝卡尔特先进涂层公司

申请人地址：

比利时丹泽

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

蒋旭荣

优先权：

CN200580035605.3

主分类号：

C23C14/34

IPC分类号：

C23C14/34 H01J37/34

IPC结构图谱

C部——化学；冶金

C23

对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制

C23C

对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆

C23C14/00

通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆

C23C14/22

以镀覆工艺为特征的

C23C14/34

溅射

法律状态

2012-11-07 ：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101458740171
IPC(主分类) : C23C 14/34
专利号 : ZL2005800356053
变更事项 : 专利权人
变更前 : 贝卡尔特先进涂层公司
变更后 : 梭莱先进镀膜股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 比利时丹泽
变更后 : 比利时丹泽

2011-02-09 ：

专利实施许可合同备案的生效、变更及注销

专利实施许可合同备案的生效号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101066879414
IPC(主分类) : C23C 14/34
专利申请号 : 2005800356053
专利号 : ZL2005800356053
合同备案号 : 2010990000989
让与人 : 贝卡尔特先进涂层公司
受让人 : 贝卡尔特(江阴)镀膜工业有限公司
发明名称 : 一种用于承载可转动的溅射靶材的扁平端块
申请日 : 20051011
公开日 : 20070926
授权公告日 : 20091202
许可种类 : 普通许可
备案日期 : 20101217

2009-12-02 ：

授权

2007-11-21 ：

实质审查的生效

2007-09-26 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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