优化校准系统
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
一种光学扫描设备通过一束辐射光束扫描介质。所述设备具有提供光束的头、控制所述光束产生扫描光斑的光束控制装置、基于从介质所反射的辐射产生扫描信号的前端单元、以及用于根据检测到的误差调节光束控制单元的调节单元。光束控制参数，如聚焦偏移量，通过基于至少源自第一校准程序的第一校准值(48)和源自第二校准程序的第二校准值(49)的一个折衷值来调节。第一和第二校准程序不同，且被设置成用于在不同的校准条件下对相同的光束控制参数提供各自的校准值，例如基于抖动的校准和基于摆动检测的校准。
基本信息
专利标题 ：
优化校准系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101084544A
申请号 ：
CN200580043844.3
公开（公告）日 ：
2007-12-05
申请日 ：
2005-12-13
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
T·P·范恩德特
申请人 ：
皇家飞利浦电子股份有限公司
申请人地址 ：
荷兰艾恩德霍芬
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
李静岚
优先权 ：
CN200580043844.3
主分类号 ：
G11B7/09
IPC分类号 ：
G11B7/09
IPC结构图谱
G
G部——物理
G11
信息存储
G11B
基于记录载体和换能器之间的相对运动而实现的信息存储
G11B7/00
用光学方法，例如，用光辐射的热射束记录用低功率光束重现的；为此所用的记录载体
G11B7/08
传感头或光源相对于记录载体的配置或安装
G11B7/09
具有在换能工作期间为保持光束对准记录载体而移动光束或聚焦平面的设施的，例如，补偿记录载体表面的不规则性或轨迹跟踪的
法律状态
2010-02-24 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2008-02-13 ：
实质审查的生效
2007-12-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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